米国知的財産権(特許、意匠、商標、著作権、トレードシーク、訴訟)

特許(Patent)、意匠(Design)、商標(Trademark)、著作権、トレードシークレット等の情報提供型ブログです。

明けましておめでとうございます。

明けましておめでとうございます。この場をかりて新年のご挨拶とさせていただきます。 久しぶりの更新となり申し訳ございません。本年は、もう少し頻繁にブログを更新していくことをNew Year's Resolutionとしました。パテントサロンの方も、更新していく予定ですので楽しみにしてください。 また、1月中旬から2月中旬まで日本に滞在いたします。滞在中、国際特許流通セミナー2010等に参加いたします。パテントサロン皆様にお会いできるのを楽しみにしてます。 また、セミナー等のご依頼がございましたら喜んでお伺いいたしますので、セミナーご希望の方は、 patentblog yahoo.co.jp までご連絡ください。 (「patentblog」と「yahoo.co.jpすべて表示すべて表示

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米国特許庁は昨年立法化された改正法におけるSupplemental Examination、Ex parte Reexaminationのルール(案)および料金(案)を発表しました。 以下に料金の規定(案)の一部を掲載します。今回新たにもうSupplemental Examinationが、$5,180とかなり高いのには驚きました。なお、以下のUR ...すべて表示すべて表示

オバマ大統領が米国特許法改正法案に署名しました。よって、6年もの間議論されてきた法案が立法化されました。 http://www.cnn.com/2011/POLITICS/09/16/obama.patent.reform/

2011年9月8日の夕方、上院が下院で通過した法案を補正なしで可決し、米国特許法改正法案が議会を通過しました。今後米国大統領が署名することにより立法化されます。 詳細については、追ってご連絡いたします。 今泉俊克



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