米国知的財産権(特許、意匠、商標、著作権、トレードシーク、訴訟)

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本日は、意匠図面の補正についてご説明いたします。

米国意匠の図面の補正についてのガイドラインは、In re Daniels 144 F.3d 1452, 46 USPQ2d 1788 (Fed. Cir. 1989)で述べられています。

A claim may be amended by removing surface treatment from the configuration of a design as long as the surface treatment does not obscure the underlying configuration. Surface treatment may encompass color or color contrast, graphic or written indicia, logos, surface ornamentation or any combination thereo; however, this decision does not permit the removal of three dimensional surface ornamentation/structure (since the underlying configuration is obscured and completion of this configuration would introduce new matter, 35 U.S.C. 132, 37 CRF 1.121

このように、例えば出願時に影付けをおこなった後、補正で影付けを削除することもできます。また、会社のロゴ入りの写真を意匠出願で出してしまった場合、後にロゴの部分を点線で示すことにより、ロゴを削除することができます。

ただし、意匠を構成するライン(Structure Line)については削除するとNew Matterであるとして補正は認められません。

逆に、出願時に影付けを加えず、後に影付けを加える場合、出願時の図面に補正のサポートがないとしてNew Matterで拒絶されることがあります。

今泉俊克

patentblogアットyahoo.co.jp

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