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以前、ブログでご紹介いたしました米国における継続出願の回数制限およびクレームの項数の制限に関する米国特許施行規則改正がOMBで承認されました。

実際にどのような改正行われるか不明ですが、官報がで次第このブログにてご紹介申し上げます。

OMBで承認された後、官報で示されたルールがいつから施行されるかは定かではございませんが。以前の米国特許庁のコメントでは、発表から一ヶ月後に施行とのことでした。いずれにいたしましても今月あるいは8月に新たな改正ルールが施行されることになります。

何か情報がはいりましたら、ご紹介いたします。

今泉

patentblog@yahoo.co.jp

Takeda Chemical Industries, Ltd. v. Alphapharm Pty., Ltd.

この事件では、最高裁判所のKSR事件判示に基づき、「Prima facie obviousnessを確立するためには、当業者(この事件では化学者)が、従来技術を変更することができたとする理由を特定する必要がある」とし、本件の状況においては、特定された、限定された数の、特定の予期できる解決策があったケースとは異なると判示しました。

CAFCは、本件は、従来技術の組み合わせが「obvious to try」である場合にObviousを示すこともあるとする最高裁判示で述べられた状況とは異なるとも述べています。

このように、本判決では、「obvious to try」について述べた判例である点、組み合わせが自明か否かを判断する際、限定された予見可能な解決策(a finite number of identified, predictable solutions)がある否かで判断した点で注目されます。


今泉
patentblog@yahoo.co.jp

米穀特許庁は、日本特許庁とのPPHパイロットプログラム(Patent Prosecution Highway Pilot Program:対応日本のクレームが許可されるた場合、対応米国出願を優先してて審査させることが可能となる)を6ヶ月間延長すると発表いたしました。

PPHパイロットプログラムは、2007年7月3日までの予定で行われておりましたが、半年間延長し、2008年1月3日まで継続されることとなりました。その後、実際に実施するか否かを評価いたします。

今泉

米国特許庁は、継続出願およびクレームの項数制限に関するルール改正使用としていることは以前ブログで取り上げましたが、そのルール改正が7月の第1週から2週にOMB(The Office of Management and Budget)で承認されるという噂が流れています。

OMBで了承されると正式にルール化されます。OMBでは、6月に入りこのルール改正に関する会合を4回ほど開いており、7月の第1週から2週にかけての発表という噂を裏付けているかのようです。

また、何か情報がはいりましたら、ブログで取り上げます。

今泉

少し、古いデータですが(2006年)、米国特許庁が発表している審査期間のデータをご紹介いたします。
                     OAがでるまで  特許庁に継続している期間
全分野 平均               22.6ヶ月    31.1ヶ月

Tech Center 1600 (バイオ、有機化学)  23.5ヶ月    34.4ヶ月
Tech Center 1700 (化学、材料)     22.7ヶ月    32.1ヶ月
Tech Center 2100 (コンピュータ、ソフト)30.8ヶ月    44.0ヶ月
Tech Center 2600 (コミュニケーション) 30.4ヶ月    42.9ヶ月
Tech Center 2800 (半導体、光学システム)16.4ヶ月    25.4ヶ月
Tech Center 3600 (運送、建設、農業)   21.7ヶ月    29.6ヶ月
Tech Center 3700 (機械工学、製造)   20.2ヶ月    28.2ヶ月

OA: Office Action(拒絶理由通知、許可通知等の特許庁の最初のアクション)
Tech Center:Art Unitといわれる特許庁の審査部門。

以上のように、全体的として、平均で2年以内にOffice Actionが発行され、3年以内に許可されています。

コンピュータ、ソフトウエア、コミュニケーション関連では、平均で3年弱でOffice Actionが発行され、4年弱で権利化されていますので、最も時間がかる分野のようです。最も短い分野は半導体で、1年ちょっとでオフィスアクションが発行され、2年ちょっとで権利化できるようです。

http://www.uspto.gov/web/offices/com/annual/2006/50304_table4.html

今泉俊克
patentblog@yahoo.co.jp


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