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シリコン・ゲルマ半導体の実用化。
ゲルマニウム・トランジスタの音が良いことはよく知られたことですが、製造歩留まりが悪いので廃れてしまいました。そこで量産に向いたシリコンの登場となった訳ですが、近年、遂にシリコンとゲルマニウムを組み合わせた新型半導体が作られる様になったのです。
以下、IT用語辞典より引用。
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ゲルマニウム(Ge)はトランジスタが発明されたときに使われていた素材であり、当時「半導体に適した物質」と言われていたが、工業的な処理のしやすさから、その後はシリコン(Si)が半導体素材の主流となった。
しかし、近年、シリコンとゲルマニウムを組み合わせたSiGe半導体が開発され、これを応用したトランジスタは消費電力が少なく、より高速で動作し、ノイズも少ないことがわかった。こうした特性は、移動体通信端末などで大容量のデータを高速に送受信・処理するのに適しており、無線通信チップで広く利用されるようになった。
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SiGeが切り開く半導体の未来
http://ednjapan.rbi-j.com/issue/2009/7/27/3616
金田式で指定された往年の名石達を凌ぐ、素晴らしい石がシリコン・ゲルマ半導体によって生まれるのもそう遠くないでしょう。否、既に生まれているかもしれません。
期待はいやが上にも高まります!♪
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