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PCT： 2010年出願統計、出願ランキング

WIPOは2月9日付、2010年度のPCT出願統計を公表し、中国の4位躍進に驚きを示した。2009年度の出願件数155,398に対し、2010年度は162,900件と4.8%の増加を示している。特に、中国は56%と急増しており、韓国の20%、日本の7.9%と東アジアがPCT出願の増加を支えた形になり、アメリカ始め欧米は減少した。


RANK　　国名 　2006 　2007 　2008 　2009 　2010予想 2010成長率
　1 アメリカ　51,280　54,043　51,637　45,618　44,855　　-1.7%
　2 日　本 　27,025　27,743　28,760　29,802　32,156　 7.9%
　3 ドイツ　　16,736　17,821　18,855　16,797　17,171　　 2.2%
　4 中　国 　 3,942 5,455 6,120 7,900 12,337 56.2%
　5 韓　国 　 5,945 7,064 7,899 8,035 9,686 20.5%
　6 フランス 6,256 6,560 7,072 7,237 7,193 -0.6%
　7 イギリス 5,097 5,542 5,466 5,044 4,857 -3.7%
　8 オランダ 4,553 4,433 4,363 4,462 4,097 -8.2%
　9 スイス 3,621 3,833 3,799 3,671 3,611 -1.6%
10 スウェデン 3,336 3,655 4,137 3,567 3,152 -11.6%


出願ランキングでも、中国の企業の急増がみられる。以下は、ランキングトップ50社である。

RANK 出願人名　　　　　　　　国籍 2010件数　前年増減
1 パナソニック　 　　　　日本　　2,154 　　263
2 ZTE CORPORATION 　　　　CN 1,863 　1,346
3 QUALCOMM INCORPORATED US 1,677 　　397
4 HUAWEI TECHNOLOGIES CN 1,528 　 -319
5 PHILIPS ELECTRONICS NL 1,435 140
6 ROBERT BOSCH DE 1,301 -287
7 LG ELECTRONICS KR 1,298 208
8 シャープ 日本 1,286 289
9 ERICSSON SE 1,149 -92
10 NEC 日本 1,106 37
11 トヨタ自動車　　　　　　日本 1,095 27
12 SIEMENS DE 833 -99
13 BASF DE 818 79
14 三菱電機 日本 　726 　　157
15 NOKIA 　　　　　　　　　FI 632 -31
16 3M US 586 -102
17 SAMSUNG ELECTRONICS KR 578 -18
18 HEWLETT-PACKARD US 564 10
19 富士通　　　　　　　　　日本 476 -341
20 MICROSOFT US 469 -175
21 E.I. DUPONT US 452 -57
22 IBM US 416 15
23 三菱重工業　　　　　　　日本 391 18
24 キャノン 日本 379 -22
25 日立製作所 日本 373 183
26 BSH BOSCH UND SIEMENS DE 371 -42
27 THE PROCTER & GAMBLE US 359 18
28 ソニー　　　　　　　　　日本　　　347　　　　19
29 NOKIA SIEMENS NETWORKS　FI 345 32
30 NXP B.V. NL 320 -273
30 住友化学工業　　　　　　日本 320 -26
32 東芝 日本 318 -9
33 APPLIED MATERIALS US 313 17
34 THOMSON LICENSING FR 311 -48
35 本田技研工業 日本 309 -9
36 COMMISSARIAT L'ENERGIE FR 308 70
37 BAKER HUGHES US 307 -68
38 UNIVERSITY CALIFORNIA US 306 -15
38 村田製作所　　　　　　　日本 306 52
40 ANGEWANDTEN FORSCHUNG DE 298 33
40 NTTドコモ　　　　　　 日本 298 49
42 MOTOROLA, US 290 -248
42 パイオニア 日本 290 7
44 SONY ERICSSON MOBILE SE 289 -146
44 DOW GLOBAL TECHNOLOGIES US 289 -15
44 MEDTRONIC US 289 53
47 EASTMAN KODAK US 284 -27
48 京セラ　　　　　　　　　日本 279 -83
49 ALCATEL LUCENT FR 275 -8
49 富士フィルム　　　　　　日本 275 11
49 HENKEL DE 275 14

続きは以下で

http://www.wipo.int/pressroom/en/articles/2011/article_0004.html

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デンマーク：　2011.1.11　国際商標と意匠条約からグリーンランド除外へ

デンマーク政府は2010年10月11日付け、WIPOに付託手続きを行い、国際登録商標に関するマドリット条約プロトコル及び国際意匠に関するハーグ条約で指定していたグリーンランドの地域指定を、次に手続きを採るまで各条約は適用されるべきでないとした。発効は2011.1.11より、従来の適用されないからレベルを高くした。
 
 
グリーンランドは長くデンマークの植民地支配を受けていたが、1975年に時事政府が成立、2008年の住民投票で75%さらなる自治権の拡大を求める結果となり、その動きが加速している。住民は5万人強、その大半を氷で覆われる巨大な島国は、眠れる地下資源に対する各国の思惑が背景にある。
 

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カーボベルテ：2010.6.3　知的財産庁設置

カーボベルデ（Cape Verde)政府は2010年5月24日付官報No.20で政府公告No.25/2010を発行し、知的財産庁（Instituto da Propriedade Intelectual de Cape Verde)の設立を発表した。従来の観光経済産業庁と文化庁に分かれていた業務を統合する。全ての知的財産権に加え、著作権とその隣接権に関する業務は知的財産局に移行される。

従って、主要業務は特許、実案、意匠、商標、原産地表示、地域表示、著作権及び隣接権などの管轄、権利行使に関する一切の業務を行う模様である。

http://www.governo.cv/index.php?option=com_content&task=view&id=2399

代理人PCF情報

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2010.5.10 EPO/OHIM 噴煙による緊急期間延長措置

EPOは5月3日付、アイスランドの噴火による航空機遅延などの理由により、4月15日から28日に期限を迎えていた手続きの期限を規則134EPCに基づき4月29日にすると公示した。本件は優先権主張による出願には適用されません。PCTの移行については規則26bis3による回復措置が可能です。
 
OHIMは4月23日付、同種の理由から、4月15日から23日に期限を迎えていた手続きを公示EX-10-1に基づき、4月30日までにすると公示した。
 
 
 

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中国：2010.1.1　最高人民法院の特許権侵害訴訟司法解釈施行

中国最高人民法院の特許権侵害紛争の審理における法律の適用に関する若干の問題に関する解釈 (法釈〔2009〕21号) は公布（2009年12月28日）施行（2010年1月1日）となった。

昨年6月18日に意見募集稿として公示後、10月1日より施行する予定であった特許権侵害紛争の審理に関する司法解釈が3カ月遅れで公布された。中国では、法律改正が数多く行われており、予定通りに改正や立法作業が進んでいない現状がある。さて、最終的な司法解釈は、既にご存じのように均等論を含めたクレーム解釈、禁反言、被疑侵害製品との類比判断、組立部品また包装品などによる侵害の態様、従来技術や先使用による抗弁及び侵害額の認定などが規定されているが、全25条からなる意見募集稿は最終的に20条になり、削除や修正された点は以下の通りである。

意見募集稿から削除された条項は、意見募集稿で第1条2項の特許無効宣言と残存請求項による調停の関係、第2条2項の特許権の完全性、第4条の特許の保護範囲と均等の判断、第9条2項の意匠の製品分類との組合せ判断、第11条2項の関連公衆とその定義、第13条の特許製品の組立と意匠権のある包装物品の再利用、第16条の故意による寄与侵害行為、第17条2項の発明や実案特許侵害訴訟における特許抵触申請による抗弁、第18条2項の意匠特許侵害訴訟における特許抵触申請による抗弁、第20条の標準特許の対応、第21条2項及び3項の一部分の損害額認定における部品や包装物の寄与度の認定、第22条仮保護期間中の侵害判断である。

一方、司法解釈条文として修正や追加された条項は、第6条の禁反言に出願係属中を追加、第10条の関連公衆から一般消費者に変更、第11条の意匠の類似判断、第12条2項で意匠製品が機能的役割を果たす場合の例外、同3項で共同権利侵害、第15条で先使用における条件を必要から必須に格上げ、第18条で催告状の対応期間2カ月を追加、第19条で改正法の適用、第20条で不一致条項の適用となっている。

司法解釈の適用については別の機会に問題点や課題を検討したいが、中国の立法では裁量権の幅を持たせることがある。また、意見募集稿ではまだ議論があるところまで細かく書きすぎたきらいがあるので、均等の判断や類否判断、関連公衆の定義などを削除しコンサイスになったのも頷けるところである。しかし、こうした点が実施条例や審査指南に反映されていないとケースバイケースの判決が出される可能性があるので、柔軟性も必要であるが、明瞭な解釈の記載も必要であると思われる。

>特許権侵害紛争の公正な審理のため、「中華人民共和国専利法」及び「中華人民共和国民事訴訟法」等関連法律の規定に基づき、実際の裁判を踏まえ、本解釈を制定する。
第一条
人民法院は権利者の主張する請求項と特許法第59条第1項の規定に基づき、特許権の保護範囲を確定しなければならない。権利者が一審の法廷弁論終了前に主張する請求項を変更した場合、人民法院はこれを認めなければならない。
権利者が従属請求項の特許権の保護範囲の確定を主張した場合、人民法院は当該従属請求項に記載される付加的な技術的特徴、及び当該引用の請求項に記載される技術的特徴の両方に基づいて特許権の保護範囲を確定しなければならない。
第二条
人民法院は請求項の記載に基づき、その分野の通常の技術者が明細書及び図面から請求項に対する理解を合わせ、特許法第59条第1項が規定する「特許請求項の内容」を確定しなければならない。
第三条
人民法院は請求項について、明細書や図面、請求項の範囲に関連する請求項及び特許審査書類を用いて解釈することができる。明細書で請求項の用語を特に限定している場合、その特別な限定に従うものとする。
上述の方法を用いても、請求項の用語の意味を確定できない場合は、辞典類、教科書などの公知文献及びその分野の通常の技術者が理解する通常の意味を踏まえて解釈することができる。
第四条
請求項において機能或は効果により技術的特徴を述べている場合、人民法院は明細書及び図面が描写する当該機能或は効果の具体的な実施方式及びそれと同等の実施方式に基づき、当該技術的特徴の内容を確定しなければならない。
第五条
明細書或は図面中に描写されながらも請求項に記載されていない技術方案について、特許権者が特許権侵害訴訟中にこれを特許権の保護範囲に加えた場合、人民法院はこれを支持しない。
第六条
特許出願人、特許権者が特許出願或は無効宣告手続き中に、請求項、明細書に補正或は意見陳述後に放棄した技術法案について、特許権者が特許権侵害訴訟中これを再び特許権の保護範囲に加えた場合、人民法院はこれを支持しない。
第七条
人民法院は、被疑権利侵害技術方案が特許権の保護範囲に入るかどうかを判断する時、権利者が主張する請求項に記載される全ての技術的特徴を審査しなければならない。
被疑権利侵害技術方案が、請求項に記載される全ての技術的特徴と同一または均等の特徴を含んでいる場合、人民法院は被疑権利侵害技術方案は特許権の保護範囲に含まれると認定しなければならない。被疑権利侵害技術方案の技術的特徴を請求項に記載される全ての技術的特徴と比較し、請求項に記載される一つ以上の技術的特徴が欠けている場合、或は一つ以上の技術的特徴が同一でも均等でもない場合、人民法院は被疑権利侵害技術方案は特許権の保護範囲に含まれないと認定しなければならない。
第八条
意匠特許製品と同一或は類似する種類の製品において、登録意匠と同一或は類似する意匠を採用した場合、人民法院は被疑侵害意匠が特許法第59条第2項に規定する「意匠特許権の保護範囲」に含まれると認定しなければならない。
第九条
人民法院は意匠製品の用途により、製品の種類が同一又は類似であるか否かの認定しなければならない。製品の用途を確定するには、意匠の簡単な説明、国際意匠分類表、製品の機能及び製品の販売、実際の使用状況等の要素を参考にすることができる。
第十条
人民法院は意匠特許権製品に関連する一般消費者の知識水準と認知能力を基準にして、意匠の同一或は類似であるか否かの判断をしなければならない。
第十一条
人民法院は意匠が同一または類似であるか否かを認定する時、登録意匠と被疑侵害意匠の意匠の特徴に基づき、意匠の全体的な視覚効果から総合的に判断しなければならない。主に技術的な機能から決定される意匠の特徴及び全体的な視覚効果に影響しない製品の材料、内部構造等の特徴を考慮に入れてはならない。
以下に掲げる状況は。通常意匠の全体的な視覚効果に対してより影響が強いものである：
（一）製品を正常に使用する時、その他の部分に比べ、容易に直接的に観察できる部分；
（二）登録意匠のその他の意匠の特徴に比べ、従来意匠と識別できる登録意匠の特徴。
被疑侵害意匠が登録意匠と全体的な視覚効果において差異がない場合、人民法院は両者が同一であると認定しなければならない。全体的な視覚効果において実質的な差異がない場合、両者は類似すると認定しなければならない。
第十二条
発明或は実用新案特許権侵害製品を部品として、別の製品を製造している場合、人民法院は特許法第11条に規定する「使用行為」に属すると認定しなければならない。当該別製品を販売した場合、人民法院は特許法の第11条規定する「販売行為」に属すると認定しなければならない。
意匠特許権侵害製品を部品として、別の製品を製造し、且つ販売した場合、人民法院は特許法の第11条に規定する「販売行為」に属すると認定しなければならない。但し、意匠特許権侵害製品が当該別の製品の中で技術的な機能のみを有する場合はこの限りでない。
前二項の規定する状況において、被疑侵害者間で分業協力体制が存在した場合、人民法院は共同権利侵害と認定しなければならない。
第十三条
特許方法を使用して得た最初の製品については、人民法院は特許法第11条に規定する「特許方法によって直接獲得した製品」と認定しなければならない。
当該最初の製品を加工、処理して後続する製品を得る行為について、人民法院は特許法第11条の規定する「特許方法の使用により直接得られた製品」に属すると認定しなければならない。
第十四条
特許権の保護の範囲に入るとされた全ての被疑技術的特徴が1つの従来技術方案の相応する技術特徴と同一であるか、実質的な差異がない場合、人民法院は被疑権利侵害者が実施した技術が特許法第62条に規定する「従来技術」に属すると認定しなければならない。
被疑権利侵害意匠が１つの従来意匠と同一であるか、実質的な差異がない場合、人民法院は被疑権利侵害者が実施した意匠が特許法第62条に規定する「従来意匠」に属すると認定しなければならない。
第十五条
被疑権利侵害者が非合法に取得した技術或は意匠をもって先使用権の抗弁を主張した場合、人民法院はこれを支持しない。
下記の状況の一つに該当する場合、人民法院は特許法第69条第(2)項に規定する「既に製造、使用のために必要な準備を終えている」と認定しなければならない：
（一）発明創造の実施に必須の主要な技術設計図或は生産技術文書を既に完成している；
（二）発明創造の実施に必須の主要な設備或は金型を既に製造或は購入している。
特許法の69条第(2)項に規定する「原範囲」とは、特許出願日前に既に存在する生産規模及び従来の生産設備を利用するか、或は従来の生産準備をもって達成可能な生産規模が含まれる。
先使用権者が特許出願日後、既に実施或は実施に必要な準備した技術或は意匠について譲渡或は他人に実施許諾し、被疑侵害者が当該実施行為は従来の範囲内での継続的実施であると主張した場合、人民法院はこれを支持しない。但し、当該技術或は意匠が従来の企業と共に譲渡或は継承された場合はこの限りでない。
第十六条
人民法院は特許法第65条第1項の規定に基づき「権利侵害者が権利侵害により獲得した利益」を確定する時、権利侵害者が特許権侵害行為により獲得した利益に限定しなければならない。その他の権利により生じる利益を合理的に控除しなければならない。
発明、実用新案特許権を侵害する製品が別の製品の部品として使用される場合、人民法院は当該部品自体の価値、及び製品が上げた利潤に貢献した要素に基づき、合理的に賠償額を確定しなければならない。
意匠特許権侵害製品が包装物品の場合、人民法院は包装物自体の価値及び包装された製品が上げた利潤に貢献した要素に基づき、合理的に賠償額を確定しなければならない。
第十七条
製品或は製品の技術方案が特許出願日以前に国内外の一般公衆に公知である場合、人民法院は当該製品が特許法第61条第1項に規定する「新製品」に属さないと認定しなければならない。
第十八条
権利者が他人に特許権侵害の警告を発し、警告を受けた者或は利害関係者が書面をもって権利者に提訴権の行使を催告し、権利者が当該催告書の受領日から1ヶ月以内或は催告書が送付された日より２ヶ月以内に警告の撤回も起訴もせず、その後警告を受けた者或は利害関係者が人民法院に、その行為の特許権非侵害確認訴訟を提起した場合、人民法院はこれを受理しなければならない。
第十九条
2009年10月1日以前に発生した被疑特許権侵害行為は改正前の特許法を適用する。2009年10月1日以後の発生は改正後の特許法を適用する。
被疑特許権侵害行為は2009年10月1日以前に行われ、且つ2009年10月1日以降にも継続し、改正前と改正後の特許法の規定のいずれでも権利侵害者が賠償責任を負わなければならない場合、人民法院は改正後の特許法を適用し賠償額を確定する。
第二十条
本院が以前に公布した関連司法解釈が本解釈と一致しないもの場合、本解釈を基準とする。
関連WEB:　 http://www.court.gov.cn/s

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